哈工大光源技术突破，美国封锁失效？ASML立场为何剧变？
天都塌了，美国人怎么也想不到，一夜之间，局势如风云突变！不仅洛杉矶的熊熊烈火吞噬了往日的繁华，就连光刻机领域的两大巨头ASML与台积电也悄然转变立场，这无疑是科技界的一次大地震。
他们惊觉，一个比华为麒麟9020与8000A芯片更为骇人的威胁正悄然浮现。若非哈尔滨工业大学（哈工大）毅然决定将13.5纳米极紫外光技术的突破性成果公之于众，恐怕世人还沉浸在一片懵懂之中！
回想起之前，荷兰光刻机霸主ASML的掌门人还大放厥词，声称中国芯片技术落后西方整整15年，美国对EUV光刻机的禁运更是让他们信心满满，甚至扬言即便将图纸拱手相送，中国也无力打造出光刻机，毕竟那精密的光元器件多达十万之众。
然而，现实却如同一记响亮的耳光，狠狠扇在了他们的脸上。他们未曾料到，除了华为这位自研芯片的佼佼者，中国还有哈工大这样的黑马异军突起。与其说他们畏惧华为，不如说更深层次的是对中国芯片产业崛起的深深忧虑。
光刻机的奥秘在于，它如同一位精密的画家，将电路图精准地“描绘”在晶圆之上，而这一切都离不开光的助力。紫外光如同魔法师的法杖，将设计图缩小并投射到芯片上，完成了从虚拟到现实的华丽蜕变。而光源的重要性，更是无需多言。
令人啼笑皆非的是，荷兰ASML所依赖的EUV光刻机，其光源竟也源自美国的Cymer公司，这也就不难理解为何台积电与ASML曾一度受到美国的蛊惑，对华为芯片代工按下暂停键。
然而，哈工大此次所研发的光源，虽然同样采用13.5纳米的波长，却与美国Cymer公司的传统LPP技术大相径庭。哈工大采用的是更为先进的DPP技术，即放电等离子体极紫外光刻光源。这项技术不仅效率更高、难度更大，而且精准度更是达到了前所未有的高度。
当然，一台顶级的EUV光刻机并非仅凭顶级光源系统就能独步天下，它还需要物镜系统、双工件台、控制系统这三大核心部件的鼎力相助。其中，ASML所搭载的物镜系统便出自光学巨头蔡司之手。
但话说回来，麒麟9020能够成功实现7纳米技术，已经足以证明中国在物镜系统、双工件台以及控制系统方面取得了长足的进步。这也是为何有博主断言，麒麟9020未来能够持续更新迭代的原因所在。
而让美国人更为担忧的是，华为不仅在智能手机芯片领域大放异彩，其昇腾AI算力芯片更是成为了国内唯一能够对英伟达构成重大威胁的存在。此外，华为的鲲鹏电脑级别芯片等也是实力非凡，追赶速度更是有过之而无不及。
