技术和AMSL不同，国产EUV光刻机真的要来了吗？韩半导体工程师：或今年秋天投产

小斌斌说科技 2025-03-15 16:54:41

技术和AMSL不同，国产EUV光刻机真的要来了吗？韩半导体工程师：或今年秋天投产。

3月14日，一位韩国半导体工程师，对我国EUV光刻机的研发情况进行了推测和分析。他认为，中国在光刻胶材料、精密光学及超高真空系统等关键技术领域都取得了突破性进展。并指出，国产高端EUV光刻机所采用的“激光诱导放电等离子体”(LDP)技术路线，完全摆脱了ASML的激光等离子体（LPP）技术路线，该技术有助于克服衍射极限，使线宽小于5纳米。

一旦我国的EUV光刻机研发成功，世界半导体格局将会重新洗牌。

消息传出，韩国网友坐不住了。中国半导体技术的突破速度，已经远远的超出了他们的预料……

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