这两天，中科院的一项技术在网上引起了很多讨论，很多人都说我国的EUV光刻机技术马上就要突破了，甚至有人说我国即将用国产光刻机制造出3纳米的芯片。 其实这里面很多都是人云亦云，甚至很多人对EUV光刻机是什么都不懂，只知道一个大的概念。其实光刻机没有大家想象那么简单，这次中科院所突破的只是光源技术，实际上在光源技术上面，中国在前两年就突破了，因为这个是关键技术，所以没有在网上传开而已。 而且大家要看清了中科院这次技术突破是深紫外线，也就是DUV光刻机所使用的光源，而EUV光刻机所使用的是极紫外线，它的技术要高出很大一个段位。 另外就算我们在光源技术上实现了技术突破，但EUV光刻机除了光源之外，还有物镜等很多核心技术都是非常关键，其中物镜是最难突破的技术之一，纵观全球，目前真正能够提供EUV物镜的只有德国的蔡司，虽然我国在物镜技术上面也有所突破，但距离EUV光刻机的要求还有一段距离，所以短期内想要实现EUV光刻机量产其实有一定难度。 但可以肯定的是，目前我国在EUV光刻机的产业链上面其实已经储备了很多技术，而且很多核心技术都已经逐渐取得突破，我相信5~10年是有很大希望推向市场的。
