ASML首席财务官戴厚杰：中国进行的光刻机替代技术进展我已有所耳闻！但我坚信，中国依然需要很多年才能造出一台先进的EUV光刻机！ Roger Dassen补充强调，中国目前的光刻机攻坚战，里面的具体技术攻坚，并没有什么新的东西，哪怕已经在进行EUV设备的研发，但是真正要造出来一台可以商用的，还需要很多年。 对于尖端光刻机这种不存在技术原理难题，只存在工程实现难题的项目来说，咱们攻破只会是时间早晚，因为戴某忽略了一个重点，为了重大的工业装备项目的突破，咱们可以做到举国体制，二弹一星怎么横空出世的？ 所以，某些“洋大人”口中的很多年，应该还是带有傲慢与偏见，我认为未必有想象中的遥远，举许3~5年，就能让他们刮目相看！诸位觉得呢？
戈明
估计5年内