英特尔高管:未来芯片制造将减少对 ASML 高 NA EUV 光刻机的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位
据投资研究平台 Tegus 披露的讨论内容,一位匿名英特尔总监表示,未来晶体管设计将降低对先进光刻设备的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位。
英特尔高管:未来芯片制造将减少对 ASML 高 NA EUV 光刻机的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位
据投资研究平台 Tegus 披露的讨论内容,一位匿名英特尔总监表示,未来晶体管设计将降低对先进光刻设备的依赖,转而提升刻蚀技术的核心地位。
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