中方光刻机发展停滞！美智库刚发布报告，就被接下来一幕打脸了。 7月中旬，华盛顿独立智库安全与新兴技术中心（CSET）发布报告，声称中国光刻设备主要供应商在旧一代光刻机市场的占有率仅为4%，并断言“光刻技术仍是制约中国芯片产业发展的关键瓶颈”。报告分析认为，中国在先进光刻技术上远远落后于荷兰ASML和日本尼康。 然而，这份报告的结论随即被打脸，英伟达宣布将恢复H20在中国的销售。英伟达为啥这么着急，主要是华为内部可能正在开发的高端机台。此外，哈工大EUV光源技术突破斩获省级一等奖，上海微电子28nm光刻机量产在即，中芯国际14nm FinFET工艺成功导入客户，中国首条光子芯片中试线在无锡实现量产。 报告认为，缺乏先进光刻设备已导致中国芯片产业的进步陷入停滞。这一结论基于对各家企业向一家加拿大半导体研究机构提交的营收数据分析得出。这份数据能有多可靠多真实？显然这是和市场的真实进展不符合的。CSET发布的这一报告毋宁说是为了安慰美国脆弱的自尊心。 光刻技术的进步并非孤立现象，而是一系列产业链协同创新的结果。在上游零部件领域，科益虹源等企业实现光学镜头技术突破；奥普光电研发的超精密光栅编码器定位精度达0.08nm，应用于上海微电子双工件台。这些都是实打实的进步，可惜CSET是根本无视这些的。
