*“中国永远造不出光刻机！”9年前年中科大副院长朱士尧认为美国造不出来光刻机，中国更难，而之后4年前中国工程院院士吴汉明也说造光刻机不现实，为啥这些学者对自己这么没信心？我们是真造不出吗？ 过去好些年，不少人心里都有个想法，觉得美国能做到的，中国未必能行；可要是美国都做不到，那中国肯定没戏。 在光刻机这事儿上，这种想法就更明显了。 现在咱们也公布了一些相关设备的进展，你说这到底是真的突破了，还是正好印证了当初那些说法呢？ 让人琢磨的是，咱们自己人还在那儿怀疑的时候，国外的对手反倒觉得要面临大挑战了。 其实，说这些学者没信心，倒不如说他们是看透了这里面的难处。 朱士尧和吴汉明说那些话，不是凭空瞎猜，光刻机这东西实在太复杂了，号称是人类工业皇冠上的明珠，一点都不夸张。 一台高端的光刻机，光零部件就有上十万个，涉及到光学、机械、精密控制等好多顶尖领域，得几十个国家一起合力才能造出来。 荷兰的 ASML 公司能垄断高端光刻机市场，不是一天两天的事儿，人家积累了几十年的技术，手里还攥着一大堆专利，别人想随便超越，难着呢。 那时候中国在很多基础领域都有短板，比如高精度的镜头、特殊的材料、核心的光源技术，都跟不上趟。 这些学者基于当时的现实说出那些谨慎的话，其实也是怕大家盲目乐观，最后耽误了正事。 上海微电子早就能造出 90 纳米的 DUV 光刻机了，虽说跟最先进的比还有差距，但已经能用到一些芯片的生产上了。 2023 年的时候，他们还推出了 28 纳米的改进型设备，虽然不是最顶尖的水平，但这说明咱们一直在往前赶。 不光是整机研发，那些配套的技术也在慢慢突破。 长春光机所研制出了适合光刻机用的光学镜头，中科院在光源技术上也有了新进展。 这些都能证明，中国不是造不出光刻机，只是需要时间慢慢追赶。 中国被卡脖子的技术可不止光刻机这一个。 在芯片领域，光刻胶、EDA 软件这些关键东西，大多还得靠进口。 航空发动机里的单晶叶片材料，也还得依赖国外。 还有高端轴承、精密仪器这些，也常常被别人捏着把柄。 这些技术就像一道道坎，拦着中国产业升级的路。 但再难也不代表做不到，就像当年造原子弹、卫星，国外也都说中国不行，最后咱们不还是搞出来了？ 大家最关心的还是上海微电子的 EUV 光刻机进展咋样了。 EUV 是目前最先进的光刻技术，能用它造出 7 纳米以下的芯片。 咱们在这方面确实还在攻关，有消息说已经申请了不少专利，在一些关键部件上也有了突破，但离真正量产还有不小的距离。 最大的难点在于光源功率不够，达不到量产的要求，光学镜头的精度也还差那么一截。 不过国家把这事儿当成重点项目，砸了不少钱，科研人员也在没日没夜地干，相信总有突破的那天。 要说国产光刻机和荷兰 ASML 的差距，那得客观看待。 ASML 最先进的 EUV 光刻机，已经能做到 3 纳米甚至 2 纳米的量产了，而咱们最好的 DUV 光刻机，还在 28 纳米这个级别。 这差距不光是技术参数上的，更体现在整个产业生态上。 ASML 有全球的供应链支持，英特尔、三星、台积电这些大公司都是它的股东，能一起共享技术。 咱们这边，很多配套企业还在成长，得一点点把短板补齐。 ASML 用了三十年才走到今天，中国才追了十几年，能有现在的成绩已经很不容易了。 有质疑声不是坏事，反倒能成为动力。 中国从追赶者变成并跑者，甚至将来成为领跑者，需要时间，更需要大家的耐心。
罗良弢
好意思说，吃干饭么