国产光刻机突破10纳米!中美芯片暗战进入“技术核爆”阶段, 中国璞璘科技纳米压印

寻川科技 2025-08-12 13:45:48

国产光刻机突破10纳米!中美芯片暗战进入“技术核爆”阶段, 中国璞璘科技纳米压印光刻机实现10纳米以下工艺,直接打破佳能14纳米技术封锁。这一突破不仅成本仅为EUV技术的10%,更让中国存储芯片摆脱设备依赖。 与此同时,长晶科技从Fabless转型IDM,整合设计到封测全链条,年销芯片超300亿颗。 美国试图通过“后门芯片”和“技术断供”遏制中国,却低估了本土企业的反击力度。台积电2纳米泄密案更暴露全球供应链的脆弱性,技术保密已成政治博弈的牺牲品。 在我看来,中国半导体的崛起不仅是技术突围,更是对全球产业规则的挑战,未来十年将是重塑权的终极较量。

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