荷兰估计肠子都悔青了。 中国已经有了自己的光刻机了，荷兰以为给美国交投名状，不给中国提供光刻机，中国就无法研制出，没想到，中国已经研制出来了。 2024年9月，荷兰政府在美国施压下宣布，对出口到中国的深紫外（DUV）光刻机实施更严格的审批制度，而极紫外（EUV）光刻机更是早就完全禁止。荷兰阿斯麦（ASML）作为全球唯一能生产EUV光刻机的企业，原本在中国市场赚得盆满钵满，2023年对中国销售额占其全球收入的29%，高达64亿欧元。但在美国的淫威下，荷兰不得不牺牲自家企业的利益，以为这样就能遏制中国科技发展。 可荷兰人万万没想到，中国半导体人愣是在封锁中杀出一条血路。就在荷兰宣布限制措施的同一年，杭州传来重磅消息，浙江大学校友企业研发的首台国产电子束光刻机“羲之”正式投入应用测试，精度达到0.6纳米，线宽8纳米，直接比肩国际主流设备。这台设备专攻量子芯片和新型半导体研发，无需传统掩膜版，能像用纳米级毛笔在芯片上精准作画，彻底打破了国际出口管制的困局。 更让荷兰坐不住的是，上海微电子（SMEE）在DUV光刻机领域也取得了重大突破。这家中国企业早在2018年就推出了用于90纳米制程的600系列光刻机，2024年更是公布了极紫外（EUV）光刻机相关专利，技术直指 8 纳米曝光分辨率。虽然EUV光刻机仍需时间打磨，但DUV光刻机的国产替代已经实实在在地威胁到了ASML的市场地位。 荷兰的如意算盘彻底打错了，原本以为限制出口能让中国“无米下锅”，却没想到反而激发了中国的自主创新能力。中国半导体设备市场规模从2019年的175亿元猛增至2022年的593亿元，年均增长率高达 48.3%。2024年全球半导体设备销售额中，中国大陆以491亿美元位居全球首位。 这还不算完，中国不仅在光刻机整机上取得突破，产业链上下游也在快速完善。中微公司的 5 纳米刻蚀机早已通过台积电验证，成为全球少数能提供高端刻蚀设备的企业；北方华创的薄膜沉积设备、浙江启尔机电的超洁净流控系统等核心部件，也在逐步替代进口。这些配套技术的进步，让中国半导体产业形成了完整的生态闭环。 荷兰现在估计肠子都悔青了，原本可以继续在中国市场赚得手软，却因为政治操弄失去了最大的增长机会。ASML前CEO温宁克早就警告过：“美国的限制越多，中国越有可能自力更生。” 如今这句话应验了，而荷兰只能眼睁睁看着中国在光刻机领域一步步逼近甚至超越自己。更讽刺的是，中国自研的光刻机不仅满足国内需求，未来还可能进军国际市场，与ASML正面竞争。到那时，荷兰恐怕连后悔的机会都没有了。
