这几天，网上的信息透露中国浸润式DUV光刻机技术获得了突破，那么距离EUV光刻机

这几天，网上的信息透露中国浸润式DUV光刻机技术获得了突破，那么距离EUV光刻机就不远了。 国外专家表示，EUV光刻机除了光源和部分零件以外，大部分技术都是以浸润式DUV光刻机为基础的。说白了就是在浸润式光刻机上面换一些零部件。 谈到浸润式光刻机不得不提台积电。 2000年，台积电招募华人科学家林本坚，让其担任负责研发的副总经理。2002年林本坚提出浸润式光刻技术的概念。他指出，水的折射率大于1，把透镜和晶圆之间的介质从空气换成水，就可以将193纳米的波长缩短到157纳米，从而提高光刻的精度。 因为台积电是芯片制造厂，无法制造光刻机，于是台积电与多家光刻机公司联系，而尼康和佳能等公司，在干式光刻机投入了大量资金，不相信林本坚的技术，甚至抵制这一技术推广。 但是荷兰ASML看到了浸润式光刻技术的潜力，于是跟台积电再2004年研发出全球第一台浸润式光刻机。也凭借浸润式光刻机，ASML成为光刻机市场的主导者，而台积电也凭借浸润式光刻机再2004年拿下全球一半的芯片代工合同，成为全球最大的芯片代工企业。 台积电和ASML顺利合作，也跟飞利浦在当时是这两家大公司的股东有一定关系，果然自己人好办事！ EUV光刻机是从浸润式光刻机演变而来的，基础技术基本上没变，只要解决光源和一些部件的问题，就能够开发出EUV光刻机。 EUV光刻机采用的是德国蔡司镜头，目前被称为唯一。我们想开发出EUV，也必须开发出可以比肩蔡司镜头的产品。