荷兰光刻机巨头ASML在财报中表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 麻烦看官老爷们右上角点击一下“关注”，方便您进行讨论和分享，感谢您的支持！ 最近，荷兰光刻机巨头 ASML 在财报里说了一句话，让整个半导体圈都炸了锅：“在美国的技术封锁下，中国企业想要拿到 EUV 光刻机几乎不可能。” 这话听着挺扎心，但其实一点也不意外。ASML 不是不想卖，是真不敢卖。美国这几年把半导体当成战略武器，逼着荷兰政府对中国下出口禁令。 2024年开始，最先进的 EUV 光刻机被正式列入禁售名单，连部分高端的 DUV 型号也被卡得死死的。 要知道，中国以前可是 ASML 最大的客户。2024 年，中国市场占 ASML 总销售额的 36%，结果到了今年掉到 27%，这对他们自己也是伤筋动骨。 可没办法，美国的限制太狠了，不光卡整机，连里面的零部件、光源材料都算在管控范围内。ASML 想违抗？那是想都别想。 所以他们在财报里那句“几乎不可能”，其实是说被美国掐住脖子的无奈，而不是故意针对中国。 但咱中国可不是一说“不可能”就放弃的国家。相反，美国越是封锁，咱越是要干。 国家早在几年前就把半导体当成“必须攻下的高地”，政策、资金、人才全都往这上面砸。2025 年 5 月出台的文件明确提出，要加快芯片产业发展，买国产设备可以拿补贴，搞研发还能领专项资金支持。 这些可不是写在纸上的口号，是真金白银往里投。数据显示，中国半导体研发投入这几年平均每年增长超过 20%，2024 年国家大基金三期更是直接注资 3440 亿元，差不多顶前两期的总和。 被逼急了就得拼命，中国芯片产业就是这样一步步干出来的。 光刻机这玩意儿，是整个芯片制造的“灵魂设备”，尤其是 EUV 光刻机，全球就 ASML 一家能量产。没有它，7 纳米以下的芯片基本做不出来。可中国没拿到 EUV，就另辟蹊径，从 DUV 光刻机入手。 上海微电子在 2024 年交付了首台 28 纳米的国产 DUV 光刻机，虽然还没到 EUV 的级别，但意义重大，说明中国的制造链已经能自己跑起来了。 北方华创、中微公司这些企业的订单更是排到 2026 年。国产设备市场占比也从 28% 涨到 35%，这就是实打实的进步。 而且不仅是设备，光刻胶、掩模版这些关键材料，咱也在一点点啃。以前这些全靠进口，现在国内企业开始批量供货。 苏州一家厂的 ArF 光刻胶通过了中芯国际的验证，上海另一家公司的高精度掩模版也已经能上 14 纳米的生产线。 光源技术也有突破。以前那块是美国公司垄断的，如今上海光机所换了技术路线，把效率提升到国际先进水平。虽然离商用还有点距离，但这一步太关键了，相当于打通了通往 EUV 的大门。 美国那边老说“你们造不出 EUV，还得很多年”，这话也没错，但他们低估了中国人的韧劲。 想当年，大家也觉得中国不可能在新能源车、5G 上追上，现在呢？全球一半的电动车都是中国造的，5G 基站全球铺得最密的也是咱。 现在的半导体行业也一样，中芯国际靠着老式 DUV 设备，通过多重曝光技术，硬是做出了接近 5 纳米的工艺；华为的 7 纳米芯片手机一出，全世界都惊了。 这说明，就算没有最先进的设备，中国工程师也能用现有条件玩出花样。 更让人兴奋的是，2025年8月中国推出了首台商业化电子束光刻机“羲之”，精度达到了 0.6 纳米，直接撕开了西方垄断了几十年的技术封锁。虽然离大规模量产还有段路，但至少我们已经有了属于自己的新方向。 这几年，美国的封锁看起来是“围堵”，但从结果上看，它反而成了中国芯片产业的“催化剂”。 以前很多环节依赖进口，现在反而被逼着把整个产业链补全。从材料到设备，从设计到制造，中国企业一环接一环地打通。 而且美国这波“卡脖子”，其实也害到了自己。ASML 的设备里用到不少中国稀土材料，而中国 2025 年出台了新的稀土出口管控政策，受限元素从 7 种增到 12 种。 这意味着 ASML 的设备生产也可能受到影响，可以说，美国打压中国芯片的同时，也在动摇整个全球供应链的平衡。 半导体行业本来就是全球协作的产物，谁也离不开谁。波士顿咨询就测算过，如果美国想完全在本土建成芯片生产链，成本会暴涨三倍。换句话说，他们封别人，也是在封自己。
