美荷两国同时发声，对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评 （阅读前请点个赞，

美荷两国同时发声，对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评 （阅读前请点个赞，点个关注，主页有更多你喜欢看的内容） 美荷两国这阵子真不安分，对着中国刚冒头的光刻机技术，劈头盖脸就是一顿指责，美国商务部说咱“技术缺乏原创性”，荷兰ASML高层更直接，声称中国“短期绝无可能追平”，这分明是被戳到痛处后的急眼，更是霸权垄断被撬动时的本能反扑。 这俩国家之所以频频发声，根子就在9月份那则消息：中芯国际正在测试上海宇量昇造的深紫外光刻机，这机器不光能稳打28纳米成熟制程，还能用多重曝光技术试产7纳米甚至5纳米芯片。 要知道28纳米是汽车芯片、物联网设备的“刚需品”，之前全靠ASML的1970i、1980i两款旧机型撑着，结果今年9月6日美国突然加码管制，连这些老型号都要许可证审批，等于把中国成熟制程的路子也堵死了。 就在这节骨眼上，中国自己的设备能顶上来了，美荷自然着急，荷兰首相吕特嘴上说ASML是“创新明珠”，身体却很诚实，去年9月就跟着美国扩大管制范围，限制NXT系列设备对华出口，现在见中国没被卡死，反而拿出了替代品，批评声自然就来了。 更讽刺的是，他们批评的“技术原创性”，纯属睁眼说瞎话。 咱光2019年中国光刻机领域的专利申请量就达3000件，其中发明专利占比超60%，这些专利遍布光源、双工件台、浸没系统等核心环节，可不是靠“逆向工程”能攒出来的。 再看实际突破，工业和信息化部2024年9月的《首台套目录》里，早就把110纳米氟化氪光刻机、65纳米氟化氩光刻机列了进去，如今28纳米浸没式机型能交付测试，是十几年技术积累的必然结果，哪来的“突然冒头”？ ASML自己心里也清楚，他们的设备里光学镜头、控制系统依赖美国技术，去年乖乖跟着美国收紧管制，可中国市场占了他们36.1%的销售额，是全球最大市场，现在中国能自己造了，他们的营收预计要少400亿欧元，这批评里藏着的，全是怕丢饭碗的恐慌。 美荷这波操作，简直把双标玩得淋漓尽致，美国一边喊着“技术公平”，却又从2023年就联合盟友围堵中国半导体，今年1月更是把禁令延伸到零部件和组装工具，连东京电子这种营收超40%靠中国的企业都被逼着站队。 荷兰更可笑，ASML总裁早年还说“中国市场绕不开”，转头就屈服于美国的“最低含量原则”，只要设备里有一点美国技术，就不敢卖给中国，现在见中国突破了，倒先指责起中国“破坏规则”。 要知道规则从来都是他们定的：他们能垄断EUV光刻机，能卡着高端技术不卖，中国被逼得自己研发，怎么反倒成了“错”？ 而我们中国的突围是真的扎实，根本不是他们嘴里的“短期投机”，上海微电子的28纳米光刻机今年5月已经交付，国产化率超90%，连中微公司的刻蚀机、北方华创的离子注入机都跟上了，北方华创的设备精度误差小于0.1%，还进了台积电5纳米的验证名单。 华大九天更是掏出了国产首套存储芯片全流程EDA工具，把之前被海外垄断的设计环节也撕开了口子。 这些突破是整个产业链的协同发力，从专利布局到设备制造，从材料研发到软件配套，一步一个脚印攒出来的。 美荷的批评，反而暴露了他们的技术霸权有多脆弱，ASML垄断EUV光刻机这么多年，靠的是全球供应链，可现在中国在DUV领域搞出了替代方案，虽然和EUV还有差距，但已经能满足大部分工业需求。 2024年中芯国际28纳米产能翻了一番，就是靠之前囤的旧设备撑着，现在国产设备接上，等于绕开了他们的封锁。 美国自己也慌，9月的新规把管制范围扩到成熟制程，甚至量子计算设备，就是怕中国在更多领域突破，可越封锁越倒逼中国加速。 所以美荷的批评就是纸老虎，看似凶狠，实则是对自身垄断地位的不自信。 他们习惯了靠技术卡别人脖子，习惯了躺着赚垄断利润，如今中国靠着自己的研发打破了这种垄断，他们第一反应不是反思自身，而是跳出来指责，这恰恰说明霸权逻辑已经行不通了。 中国从来没想过搞技术封锁，研发光刻机纯粹是被逼的，你不卖，我只能自己造；你堵路，我只能另辟蹊径。 ASML要是真有底气，就该放开销售公平竞争，而不是靠政治施压，美国要是真信自己的技术领先，就该用创新说话，而不是靠禁令续命。 现在再看这波批评，更像一场闹剧，美荷两国越是声嘶力竭，越说明中国的路走对了。 10月以来，国产光刻机的测试进展不断，相关企业的研发投入还在加码，这背后是国家的支持，是科研人员的硬拼，更是市场需求的倒逼。 霸权可以一时封锁技术，但封不住创新的劲头；垄断可以一时赚取暴利，但挡不住产业升级的浪潮。 美荷现在的批评，早晚要变成不得不接受现实的无奈，因为中国半导体产业的突围，从来不是选择题，而是生存题，是必答题，这道题，我们正在用自己的技术一步步答满分。