国产光刻产业链崛起，九大核心企业突破“卡脖子”环节 在半导体制造的核心环节——光刻技术领域，国内产业链正逐步实现关键设备与材料的自主突破。目前，多个细分板块已涌现出具备“唯一性”技术能力的企业，逐步打破海外垄断，推动国产替代进程深入发展。 在光刻胶领域，国内已有企业实现ArF光刻胶的量产，并进入主流晶圆厂供应链，产品良率表现优异。光学系统方面，具备光刻机投影物镜自主研发能力的企业已实现28nm级镜头验证，成像精度达到先进水平。上游核心材料中，激光晶体、纳米压印模板等关键材料也实现稳定供应，部分产品在全球市场占据重要份额，甚至成为国际光刻机巨头的供应商。在整机集成环节，国内唯一的光刻机整机制造商已实现28nm DUV设备交付，产业链协同效应逐步显现。此外，在超高洁净管道、碳化硅基座、光学组件及CMP设备等配套领域，多家企业通过国际认证或实现量产，填补了国内空白。 从市场情绪看，光刻产业链作为半导体自主可控的核心环节，长期受到高度关注。在政策支持与技术积累的双重驱动下，相关概念持续保持高热度和强预期。尽管短期受外部环境与行业周期影响可能存在波动，但中长期来看，随着国产化进程持续推进与技术迭代，具备核心技术和量产能力的企业有望持续受益。未来，产业链各环节的协同创新与生态整合将成为关键，在成熟制程巩固与先进制程探索中，国产光刻技术有望逐步实现从“点”的突破到“面”的拓展，为中国半导体产业筑牢制造根基。 光刻 芯片 光通信 CPO 股票交流 股市点评
