科技重大突破，光刻机已经打造出来，技术封锁又突破一项 中国已经打造出来了光刻机的原型机，虽然还不能刻录芯片，但是EUV光已经出来，预示着基础已经有了。 这里要划重点了，这消息说的是今年年初，现在是年末了才爆出来，那么肯定技术上面再次做出来了重大突破才会把消息放出来，这也是一直中国的作风。 光刻机和芯片不一样，芯片中国已经能够国产替代，甚至外销了。光刻机这东西一直没有突破技术，有了光刻机可以说以后要在科技方面进行封锁，那就没那么容易了，可以说这次是走出封锁圈，提升到战略的地步了。
科技重大突破，光刻机已经打造出来，技术封锁又突破一项 中国已经打造出来了光刻机的
元气财经
2025-12-18 08:26:20
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用户14xxx14
如果中国突破深紫外光刻机，应当向所有参与光刻机研发、建造的技术人员予以重奖并认命为国家英雄
上善药水 回复 12-18 17:20
深紫外线（DUV）光刻机早做出来了，现在要攻克的是极紫外线（EUV）光刻机
用户27xxx35
EUV26年底差不多，27年量产，28年芯片自由，25年中下旬深紫外DUV出来，26年机器量产
万里江山
关键是镜头，需要有多个凹面反射镜，而且反射镜要能达到原孑级平面度，在此基础上镀原子级厚度的膜，如果这几个问题能解决，EUV就不难了
红糖咖啡
一看就是摸黑新闻