比芯片断供更可怕的情况出现了！中国物理博士尹志尧直言：美国芯片专家中，很大部分是华人，中国在14亿人口里选人才，美国却能全球选！ 在硅谷的实验室里，曾经有一批人默默推动着全球最尖端的芯片技术迭代。他们来自同一个教育背景，却把最核心的突破留在了异国他乡。多年后，当其中一位物理博士回望这条路时，他说了一句让很多人脊背发凉的话：芯片断供固然可怕，但真正让人睡不着觉的，是人才链条的悄然流失。今天，这位博士的名字叫尹志尧，而他当年在美国的经历，正成为我们不得不面对的镜子。 2004年，60岁的尹志尧带着15位在硅谷深耕15到20年的资深工程师回到上海。那一刻，他已经拥有86项美国专利和200多项国际专利，履历横跨英特尔、泛林半导体和应用材料三大巨头。他曾亲手参与Rainbow系列介质刻蚀设备、DPS系列金属刻蚀机和硅刻蚀机的多代升级，直接帮助应用材料从市场低谷重回全球第一。离开美国时，他没有选择继续拿百万年薪，而是把积累全部带回国内，从租借的小厂房开始重新计数。这条回国的路，表面看是个人选择，实际上折射出中美芯片人才格局里最刺眼的那道裂痕。 回溯上世纪80年代，尹志尧从北京大学化学系硕士毕业后赴加州大学洛杉矶分校读物理化学博士。1984年拿到学位，他直接进入英特尔中心技术开发部。那个年代，英特尔正全力冲刺更小制程，工程师每天在洁净室里调整等离子体参数，记录刻蚀速率和侧壁角度。尹志尧很快发现，关键岗位上操着中文口音的人并不少。 到了泛林半导体，他担任研发部资深经理，主导电感耦合等离子体源的开发，团队连续数周验证工艺窗口，最终让公司刻蚀设备市场份额一度超过40%。1991年应用材料把他挖走，先后任命他为等离子体刻蚀产品总部首席技术官、副总裁、事业群总经理以及亚洲总部首席技术官。在这些年里，他看到一个事实：美国半导体产业的许多核心突破，确实依赖大量华人工程师的贡献。 尹志尧多次公开表示，美国芯片专家中很大一部分是华人。这个判断并非情绪化表达，而是基于他在硅谷二十年的直接观察。英特尔芯片设计团队华人工程师占比接近35%，高通达到42%，AMD和英伟达均超过30%。在最核心的架构设计、工艺验证和专利产出环节，华人比例往往更高。 黄仁勋领导英伟达，苏姿丰掌舵AMD，他们身后的团队里，负责GPU架构、驱动开发、制造优化的骨干工程师中，华人面孔随处可见。美国本土人口有限，却通过H-1B签证、绿卡通道、高薪职位和直接上手前沿项目的机会，把全球最优秀头脑集中到硅谷。工程类硕博项目里，海外生源占比超过四成，其中许多人毕业后直接留美，进入头部企业，成为技术升级的直接推手。 中国有14亿人口，基础教育选拔机制严密，每年都能产生大量数理化尖子生。但从上世纪80年代到本世纪初的大规模出国潮中，许多最顶尖的学生学成后选择留在海外。他们在国外企业扎根，贡献专利、推动迭代，客观上成为美国半导体霸权的重要支撑力量。尹志尧指出，这不是单一设备参数的差距，而是人才链条的系统性差距。断供光刻机、刻蚀机还能通过砸钱、攻关慢慢补上，但如果最聪明的那批人持续外流，技术根基就会出现难以逆转的断层。 回到国内后，尹志尧带领中微半导体一步步从零做到行业头部。初期资金链紧张，团队反复验证原型机参数，逐步攻克刻蚀均匀性、重复性等难题。2008年金融危机期间，公司也曾面临生存压力，但他们坚持迭代设备。经过十多年持续投入，中微推出的刻蚀设备加工精度达到0.02纳米级别，已覆盖半导体高端制造多个关键环节，进入中芯国际等生产线，在线反应台数量达到数百台。目前中微在刻蚀机市场份额接近20%，薄膜设备也在加速布局。 2025年，81岁的尹志尧恢复中国国籍，放弃美国身份，继续担任董事长和总经理，亲自指挥新一代设备的研发。 今天，中国在微电子学院建设、产教融合平台、集成电路人才培养体系上已投入巨大资源，海归比例逐步上升，头部企业也在薪酬和科研自由度上给出更有竞争力的条件。但尹志尧当年的那句话依然刺耳：美国能全球选人，我们却只能在14亿人口里选。人才争夺战已经打响，答案不在口号，而在机制、待遇和环境的每一次真实改进。为了在这场人才争夺战中取得胜利，中国必须在多个方面发力。在机制上，要进一步优化科研项目的评审机制，减少繁琐的行政流程，让科研人员能将更多精力投入到研究中。比如建立更加灵活的项目调整机制，当科研人员有新的研究思路和方向时，能够及时调整项目内容，而不是被既定的框架所束缚。 在待遇方面，除了提供有竞争力的薪酬，还应注重科研人员的生活保障。例如为科研人员提供舒适的住房、良好的子女教育资源以及完善的医疗保障等，让他们没有后顾之忧，全身心地投入科研工作。 环境的改善同样至关重要。营造一个开放、包容、鼓励创新的科研环境，让科研人员能够自由地表达自己的想法，不怕失败。
