近日，英特尔表示，ASML的首批两台 High NA EUV光刻机已在其工厂“投入生产”，比早期型号更可靠。 作为目前全球最先进的光刻机，High NA EUV的售价约3.5亿美元（约人民币25.4亿元），可以说是天价！远高于 ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元。 据悉 High NA EUV 光刻机的高度超过一间会议室，长度远超前一代设备，规格特殊且极其精密，预计每小时可曝光超过185片晶圆，支持2nm以下逻辑芯片及相似晶体管密度的存储芯片量产。 一季度内生产30000片晶圆，可以生产数千个计算芯片。 在先进制程芯片制造中导入高数值孔径EUV产品，可简化制程工序、减少光罩数量，达到产能和良率提升，减少制造每片晶圆的能耗。
