群众还是喜欢听好消息，确实需要正面说。以后会有非常多光刻机的好消息
技术细节，大家确实很难搞懂，炒涨停就完了。我昨看光刻机板块崛起，证券时报都正面报道光刻机了，悟了，要给群众信心。
我以前就是这个搞错了，总是扯技术指标这些，说什么指标不对，群众既搞不懂，也确实不喜欢。关键是语气，要给群众信心。
28nm芯片，现在从官方报道，可以看出来国产光刻机还没来搞量产，目前正在试的是国产干式光刻机搞65nm量产。我以前说的从技术上虽然没错，但是一味强调难度，这是不对的。如果2028年能用国产浸润式光刻机做出28nm，这是可以喜气洋洋说的巨大突破。
完全没必要低调，说什么很难，要很长时间。再难，也必然可以做出来，只是时间问题。3年做出28nm，非常厉害了。因为28nm就是传统芯片的绝对主力制程，有国产光刻机扩产就不会受到限制了，理论上都不会有限制了。可以说传统芯片，以后必然是中国产能和成本占据绝对优势。现在有的传统芯片已经被中国企业干成十分之一成本以下了，美国都制裁了。从技术角度，传统芯片做成光伏一样的成本绝对领先，是可能的。
先进芯片，也没有必要低调，也是形势一片大好。如果28nm芯片能量产，那一定是国产浸润式DUV光刻机，干式的不行，说明浸润式的已经成了。而7nm理论上就是和28nm光刻机一个体系的，只是需要NA和套刻精度这两项大幅进步。如果有了28nm光刻机，完全吃透了，把NA从0.70提到1.35，再把套刻精度从4.5nm提升到1-1.6nm，理论上就可以做7nm芯片了，这都是狠狠加班迭代的事。等测试生产7nm成功，再冲击量产，做到每小时加工200-300片晶圆，连续运作，就彻底胜利了！需要时间，非常正常，没人明天、明年就做出来，只要知道能胜利就行了。
还有EUV光刻机，这个已经有多条路线在试了。只要DUV光刻机套刻精度降到了1的水平，那加上EUV光源，再把光源的功率加大几倍，理论上就通了。这都只是时间问题。在股市上这都可以提前反应的，10年以后做出来都可以说是很好的预期，因为看到希望了，就可以不计成本地投钱做。
这张ASML的技术参数表，一般人看不懂。但也不要多懂，只看一条就行了：我们已经打到了表中1470的阶段了，在一级级往上打。以后每爬一级，都可以说一下，EUV出来了，说不定猛跳几级。从胜利走向胜利的感觉。
打通了，理论上说ASML和台积电就会遭到惨重打击。但是ASML给中国突机卖了不少先进DUV光刻机，这个人情可以认。
