路透社报道:中国研究人员已于今年年初完成一台可用的极紫外光刻机(EUV)原型, 极紫外光刻机是一种利用波长约 13.5 纳米的极紫外光进行芯片光刻的先进半导体制造设备,被称为 "人类工业皇冠上的明珠"。它是制造 7nm 及以下先进制程芯片的必备工具,能够在硅片上刻画出接近原子尺度的电路图案,使芯片晶体管密度大幅提升,性能显著增强,是AI 芯片的重要基础设施消息人士称,政府将生产可用芯片的目标设在2028年。这是不是意味着在不久的将来AI 芯片的成本价也将来到白菜价
路透社报道:中国研究人员已于今年年初完成一台可用的极紫外光刻机(EUV)原型,
尼春聊汽车啊
2025-12-18 16:54:18
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