中芯创始人、长江存储董事联名发文：组建国产ASML，跟对方硬碰硬   这份由行业

中芯创始人、长江存储董事联名发文：组建国产ASML，跟对方硬碰硬   这份由行业大佬联手推出的《构建自主可控的集成电路产业体系》报告，一发布就引发全网热议。王阳元、陈南翔等九位作者横跨企业、学界，每一位都在集成电路领域深耕数十年，他们的联名发声绝非一时兴起。   报告直指当前产业核心痛点。全球高端光刻机市场被 ASML 垄断，这家荷兰企业占据全球八成以上份额，其最先进的 EUV 光刻机售价高达 1 亿美元，且对出口设置严格限制。国内晶圆厂即便买到设备，也面临不能用于自主 CPU 代工的附加条款，严重制约产业发展。   光刻机的技术门槛超乎想象。一台高端 EUV 光刻机包含超 10 万个精密零件，集成光学、机械、电子等多领域顶尖技术。核心部件如 13.5nm 极紫外光源、纳米级精度物镜组，长期被少数国外企业掌控。国内此前量产的最先进光刻机为 90nm 制程，与 ASML 的 7nm、5nm 工艺存在代差。   联名作者们的呼吁有着扎实的现实基础。上海微电子已实现 90nm ArF 光刻机量产，2025 年底更中标 1.1 亿元的步进扫描式光刻机项目。   清华大学成功研发光刻机双工件台系统样机，关键指标达到国际同类水平。哈工大突破 13.5nm 极紫外光源技术，中科院上海光机所的全固态深紫外光源将芯片工艺验证推进至 3nm 理论极限。   相关产业链的突破正在形成合力。华大九天的 EDA 工具已覆盖数字电路设计主要工具的近 80%，射频电路设计全流程工具实现国内唯一覆盖。   北方华创在半导体设备领域持续发力，茂莱光学的 28nm DUV 物镜国产替代率达到 60%。南大光电量产的 28nm ArF 光刻胶，良率超过 90%，打破日本企业垄断。   更关键的是政策与资本的双重加持。国家层面，“十三五” 以来科技创新规划持续向集成电路倾斜，大基金三期 930 亿元重点投向设备材料领域。   地方政府也出台配套政策，上海临港新片区对光刻企业给予 15% 所得税优惠及研发补贴。2025 年中国光刻机市场规模将突破 150 亿元，年增速保持 15%。   组建国产 “ASML” 不是简单复制。报告提出的是构建完整产业体系，而非单一企业对标。王阳元曾在 80 年代牵头整合全国力量，成功研制大型 ICCAD 系统，这次他倡导的 “举国协同” 模式有成功先例可循。北方华创的设备制造、华大九天的 EDA 工具、长江存储的应用场景，将形成从研发到产业化的闭环。   从现实来看，国产替代已进入加速期。上海微电子的 28nm 浸没式光刻机正在量产验证，“羲之” 电子束光刻机实现 8nm 线宽工艺突破。这些进展虽与 ASML 仍有差距，但已覆盖全球 70% 的市场需求。科研团队在光源、物镜、工作台等关键环节的突破，正在逐步缩小技术鸿沟。   报告的核心诉求是 “丢掉幻想，准备斗争”。面对不断收紧的国际技术封锁，依赖进口的老路已走不通。九位行业领军者的联名发声，传递出整个产业的坚定决心。他们呼吁在 “十五五” 期间集中力量，实现光刻系统的自主化运行，这一目标既立足现实，又具有前瞻性。   国产光刻机的研发注定是场持久战。技术积累、人才培养、资金投入都需要时间沉淀。但随着产业链各环节的持续突破，政策与市场的双重驱动，自主可控的产业体系正在逐步成型。这些行业大佬用自身行动证明，核心技术买不来、讨不来，唯有靠自主研发才能掌握主动权。   未来几年，将是国产光刻机突围的关键期。相关企业与科研机构的协同创新，政策与资本的持续赋能，将推动产业从 “跟跑” 向 “并跑” 迈进。这场硬碰硬的较量，不仅关乎集成电路产业的发展，更关乎国家科技安全与经济命脉。