荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 在ASML近期的财报会议上，高管团队反复用“渺茫”这个词，定性中国企业获取EUV光刻机的可能性，这并不是一时的表态，而是长期封锁下的既定现状。 早在2019年美国开始向荷兰施压后，ASML对华出口EUV设备的通道就彻底关闭，这扇紧闭的大门，至今没有任何松动的迹象。 对于ASML而言，中国市场原本是举足轻重的业绩支柱，去年其从中国市场斩获的营收占到总营收的三成，可受封锁持续影响，今年这一占比预计会直接滑落至两成，市场份额的大幅缩水，已经成为这家光刻机巨头不得不面对的现实压力。 面对近乎无解的外部封锁，中国没有选择躺平，而是持续加大芯片领域的研发投入，且增速常年稳定在20%以上，这份坚持也有实打实的资金支撑。 国家大基金三期直接砸下3440亿重金，没有盲目撒网，而是精准瞄准半导体设备和材料这两大卡脖子硬骨头，集中力量攻坚核心短板。 这番定向发力很快见到成效，刻蚀和清洗环节的国产化率已经冲到60%，长期制约产业发展的材料端短板，也在产业链上下游的协同攻坚下逐个补齐。 中芯国际等头部芯片制造企业，更是成为国产设备的最佳试验田，国产设备在真实产线中运行调试，问题暴露得更及时，技术迭代的节奏也随之加快。 国产光刻设备的突破也在稳步推进，去年浙江余杭推出了第一台国产商业化电子束光刻机“羲之”，虽说这款设备主要用于量子芯片领域，和EUV光刻机不属于同一条技术路线，但也充分证明，中国已经具备复杂精密设备的系统集成能力。 更关键的突破集中在核心部件层面，哈工大攻克了13.5纳米的极紫外光源技术，这正是EUV光刻机的核心“心脏”，也是此前ASML依赖美国供应商的关键环节。 华卓精科的双工件台性能持续优化，稳定性不断提升，上海微电子的28纳米浸没式光刻机已经完成客户量产验证，还成功拿下1.1亿的订单，国产成熟制程光刻机逐步站稳市场脚跟。 深圳等地的EUV原型机已经完成试跑，成功打出了关键的极紫外光，研发团队也在设备上标注了2028年第三季度试产的目标，业内普遍认为，2030年实现规模化量产，才算真正在高端光刻领域站稳脚跟。 ASML掌门人也曾坦言，西方如果逼得太紧，中国势必会走出自主研发的道路，届时不仅封锁失效，西方企业还会彻底丢掉中国市场，这番话恰恰道出了技术封锁的囚徒困境。 美国的强硬施压，让ASML沦为地缘政治的棋子，以切断技术供应相威胁，而ASML原本依赖美国的核心光源供应链，也彻底变成了束缚自身的政治枷锁。 从原子弹到高铁，中国在被外界封锁的领域里，总能凭借韧劲闯出自己的路。 光刻机研发的难度确实极高，ASML也耗费了三四十年才登顶行业顶端，但中国拥有齐全的工业体系、源源不断的研发人才，更重要的是，外部封锁压力越大，国内的研发投入就越猛。 即便当前国产设备在功率、效率上和国际顶尖水平仍有差距，但每年20%以上的研发投入增速摆在眼前，技术差距只会一点点缩短。那台刻着“中国制造”的高端光刻机，迟早会正式亮相，曾经看似牢不可破的技术封锁，最终也只会沦为空谈。 大家对此怎么看？欢迎评论区留下您的观点！
