【中国打造"曼哈顿计划"以在人工智能芯片领域与西方抗衡】（路透社）据路透社报道，中国科学家在深圳一家高度安全的实验室里，制造出了华盛顿多年来一直试图阻止的东西：一台能够生产尖端半导体芯片的机器原型，这些芯片为人工智能、智能手机和西方军事优势的核心武器提供动力。该原型机预计于2025年初完成，目前正在进行测试，其占地面积几乎占据了整个工厂车间。据两位知情人士透露，该原型机由荷兰半导体巨头ASML的前工程师团队打造，他们对ASML的极紫外光刻机（EUV）进行了逆向工程。极紫外光刻机是这场技术冷战的核心。它们利用极紫外光束在硅晶圆上蚀刻出比头发丝细数千倍的电路，这项技术目前被西方垄断。电路越小，芯片的功能就越强大。据知情人士透露，中国的机器已经投入运行，并成功产生了极紫外光，但尚未生产出可用的芯片。今年4月，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯表示，中国需要“很多很多年”才能研发出这样的技术。但路透社首次报道的这款原型机的存在表明，中国在实现半导体自主方面可能比分析师预期的要快得多。然而，中国仍然面临着重大的技术挑战，尤其是在复制西方供应商生产的精密光学系统方面。据这两位知情人士透露，由于二手市场上可以找到旧款 ASML 机器的零部件，中国得以制造出国产原型机，政府的目标是到 2028 年在该原型机上生产出可用的芯片。但接近该项目的人士表示，更现实的目标是 2030 年，这仍然比分析人士认为中国在芯片领域赶上西方所需的十年时间早得多。这一突破标志着中国政府历时六年实现半导体自给自足计划的最终成果。据知情人士透露，虽然中国的半导体发展目标已公开，但深圳的EUV项目却一直秘密进行。据这两位知情人士和第三位消息人士称，中国电子巨头华为在协调遍布全国的公司和国家科研机构网络中发挥着关键作用，该网络涉及数千名工程师。人们将其描述为中国版的曼哈顿计划，即美国在二战期间研制原子弹的计划。其中一位知情人士表示：“中国的目标是最终能够使用完全中国制造的机器生产先进芯片。中国希望将美国彻底逐出其供应链。”迄今为止，只有一家公司掌握了EUV技术：总部位于荷兰费尔德霍芬的ASML公司。其价值约2.5亿美元的设备对于制造英伟达和AMD等公司设计的、以及台积电、英特尔和三星等芯片制造商生产的最先进芯片至关重要。ASML 于 2001 年制造了第一个 EUV 技术工作原型，并告诉路透社，在 2019 年生产出第一款商用芯片之前，该公司花了近 20 年时间和数十亿欧元的研发费用。ASML在一份声明中告诉路透社：“其他公司想要复制我们的技术是可以理解的，但这并非易事。”ASML 的 EUV 系统目前已向包括中国台湾、韩国和日本在内的美国盟友开放。自2018年起，美国开始向荷兰施压，要求其阻止ASML向中国出售EUV光刻系统。2022年，拜登政府实施了旨在切断中国获取先进半导体技术的全面出口管制措施，限制范围进一步扩大。这些管控措施不仅针对 EUV 系统，还针对生产华为等芯片技术水平较低的芯片的较老的深紫外 (DUV) 光刻机，目的是使中国在芯片制造能力方面至少落后一代。美国国务院表示，特朗普政府加强了对先进半导体制造设备的出口管制，并正与合作伙伴共同努力，“随着技术的进步，堵住漏洞”。荷兰国防部表示，荷兰正在制定政策，要求“知识机构”进行人员审查，以防止“心怀不轨或可能受到胁迫的个人”接触敏感技术。两名知情人士和第三名知情人士表示，出口限制多年来减缓了中国实现半导体自给自足的进程，并限制了华为先进芯片的生产。知情人士称，该团队成员包括近期退休的华裔前ASML工程师和科学家——他们是主要的招聘目标，因为他们拥有敏感的技术知识，但离开公司后面临的职业限制较少。两名目前在荷兰工作的华裔ASML员工告诉路透社，他们至少从2020年起就一直受到华为招聘人员的接触。“虽然ASML无法控制或限制前雇员的工作地点，但所有雇员都受合同中的保密条款约束，”该公司表示，“并且已成功对商业秘密被窃取的行为采取法律行动。”路透社无法确定是否已对参与中国光刻项目的前ASML员工采取任何法律行动。该公司表示，为了保护 EUV 技术，即使在公司内部，也只有少数特定员工才能访问相关信息。荷兰情报部门在 4 月份的一份报告中警告说，中国“利用广泛的间谍活动，试图从西方国家获取先进技术和知识”，包括招募“西方科学家和高科技公司的员工”。据知情人士透露，ASML 的老员工们在深圳取得的突破性进展功不可没。如果没有他们对这项技术的深入了解，逆向工程几乎是不可能的。据知情人士透露，与ASML的机器相比，中国的原型机还很粗糙，但足以进行测试。两位知情人士表示，中国的原型机落后于ASML的机器，主要是因为研究人员难以获得像德国卡尔蔡司公司（ASML的主要供应商之一）提供的光学系统。这些机器每秒向熔融锡发射5万次激光，产生温度高达20万摄氏度的等离子体。据蔡司公司网站介绍，光束通过需要数月才能制造完成的反射镜进行聚焦。据这两位知情人士透露，中国顶尖的研究机构在开发本土替代疗法方面发挥了关键作用。据知情人士透露，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（CIOMP）在将极紫外光集成到原型机的光学系统中取得了突破，使其有望在 2025 年初投入使用，但光学系统仍需大幅改进。SemiAnalysis 研究公司分析师、前 ASML 工程师 Jeff Koch 表示，如果“光源功率足够大、可靠且不会产生过多污染”，那么中国将取得“有意义的进步”。“毫无疑问，这在技术上是可行的，只是时间问题，”他说。“中国的优势在于，商用极紫外光刻技术已经存在，所以他们并非从零开始。”据知情人士透露，一支由约 100 名应届大学毕业生组成的团队正致力于对 EUV 和 DUV 光刻机的组件进行逆向工程。据四位熟悉华为运营的人士透露，虽然 EUV 项目由中国政府运营，但华为参与了从芯片设计和制造设备到生产制造以及最终集成到智能手机等产品中的供应链的每一个环节。
