又出2名内鬼，损失巨大！ 北京屹唐半导体的两名核心研发骨干，前脚刚从公司离职，后脚就转身投奔了美国的应用材料公司。这两人最离谱的操作，是把在老东家研发出的“等离子体源”核心技术，转头就拿去申请了个人专利，甚至还大大方方签上了自己的名，目前屹唐半导体已经正式向法院提起诉讼了。 没人能想到，这起背叛的主角之一，竟是屹唐半导体“青年科学家计划”重点培养的张磊 。38岁的他，2018年从美国斯坦福大学博士毕业时，是屹唐花百万年薪、配期权才挖回来的顶尖人才。“公司把最核心的研发组交给了他，光2022年给他的研发经费就超8000万，实验室的进口设备都是按他的要求定制的”，曾与张磊共事的李工至今愤愤不平，“我们跟着他没日没夜干了三年，无数个深夜在实验室调试参数，连春节都在盯着等离子体放电数据，结果他转头就把成果揣进了自己口袋”。 另一名涉案人员王浩，则是屹唐的老员工，从公司初创就加入，一路从普通工程师升到研发部副总监，手里握着的不仅是技术图纸，还有整个研发团队的协作流程和关键参数，他的倒戈让屹唐后续技术迭代直接陷入停滞。 这两人投奔的美国应用材料公司，可不是什么无名小卒。 作为全球半导体设备行业的巨头，它与荷兰阿斯麦、日本东京电子等企业一起，掌控着全球芯片制造的“咽喉要道”。这家1967年成立的美国公司，早在上世纪80年代就进入中国市场，2001年将中国地区总部设在上海，2020年还计划在上海临港建合资工厂，对中国半导体技术的觊觎从未停止。 他们最擅长的就是通过收购、挖角等方式掠夺核心技术，1980年收购英国公司进入离子注入市场，2000年又通过收购切入光罩图案生成领域，这种“拿来主义”让其多年保持行业领先。张磊和王浩的加盟，对应用材料来说，无疑是省去了数亿研发成本和数年时间，直接获得了与屹唐竞争的关键筹码。 “等离子体源”技术的泄露，对屹唐来说是致命打击。这项技术是半导体刻蚀设备的核心部件，直接影响芯片制造的精度和效率，屹唐为其投入了近5年时间、超2亿元研发资金，仅反复测试的实验数据就存满了20个硬盘。 更要命的是，该技术已接近量产阶段，原本计划2026年推出相关设备，抢占国内30%的市场份额，预估年销售额可达15亿元。现在技术被抢注专利，不仅量产计划被迫搁置，还面临着被应用材料反告侵权的风险。“我们相当于帮竞争对手免费做了研发，”屹唐法务部负责人透露，“目前已有三家国内晶圆厂暂停了与我们的合作意向，直接损失超3亿元。” 这种“带着技术跑路”的行为，在半导体行业并非个例，但这次的恶劣程度实属罕见。张磊和王浩不仅带走了核心技术图纸，还复制了研发过程中的实验数据、故障解决方案，甚至把屹唐的供应链合作细节也一并交给了应用材料。 更让人不齿的是，他们在申请个人专利时，故意隐去了技术的研发背景，谎称是自己离职后独立完成的成果。这种操作完全无视《劳动合同法》和行业伦理，要知道，职务发明创造的专利权本就属于公司，他们的行为不仅是违约，更是赤裸裸的知识产权盗窃。 应用材料之所以敢明目张胆地接纳这两名“内鬼”，本质上是看中了中国半导体技术的快速突破。 近年来，中国在半导体设备领域不断打破国外垄断，屹唐半导体的刻蚀设备、薄膜沉积设备已成功进入中芯国际、长江存储等头部企业的供应链，这让长期占据市场主导地位的应用材料感到了威胁。通过挖角核心人才、窃取核心技术，既能打压中国企业，又能巩固自身优势，这种卑劣手段，早已成为部分国外巨头遏制中国科技发展的惯用伎俩。 更值得警惕的是，半导体行业的人才争夺战早已白热化。美国不仅通过高薪、绿卡等福利吸引中国高端人才，还出台政策限制中国科技人才回国发展。 张磊正是被应用材料开出的“年薪翻倍+硅谷住房补贴+股权激励”的优厚条件所诱惑，而王浩则是因为在公司晋升受阻，转而选择背叛老东家。这背后暴露出的，是国内部分科技企业在人才激励、职业发展通道建设上的短板，也让我们看清，核心技术的竞争，最终还是人才的竞争。 中国对知识产权的保护力度早已今非昔比。 2021年修订的《专利法》大幅提高了侵权赔偿上限，针对恶意侵权可判处最高5倍的惩罚性赔偿；《反不正当竞争法》也明确规定，员工离职后不得泄露、使用原单位的商业秘密。屹唐半导体的诉讼，不仅是为了维护自身权益，更是对所有科技从业者的警示：技术可以被超越，但底线不能被突破；薪资可以谈判，但忠诚不能标价。 核心技术是国之重器，更是科技企业的生命线。张磊和王浩的背叛，给所有中国科技企业敲响了警钟：既要加大研发投入，也要筑牢知识产权保护的“防火墙”；既要吸引高端人才，也要完善人才约束和激励机制。只有这样，才能避免“为他人做嫁衣”的悲剧再次上演，才能让中国科技在激烈的国际竞争中站稳脚跟。 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
