空白掩膜版国产替代机遇 一、如何看待空间？目前价值量较高的主要是半导体级空白掩膜

空白掩膜版国产替代机遇 一、如何看待空间？目前价值量较高的主要是半导体级空白掩膜版，当前国内市场空间约为40e，预计未来5年将扩容至近100e以上。目前国内需求基本被主要日本hoya及信越垄断，国产替代空间辽阔，是较为重要的大单品。国内主要采购方明年均有较大资本开支，但前提是要完成部分供应链的自主可控，因此对于blank mask来说能否解决日系卡脖子至关重要。 二、如何看行业增长趋势？目前国内先进制程扩产规划激进，据彭博报道，中国准备投入7000亿美元用于芯片制造，目前行业内较多ai芯片设计公司上市，对于先进制程产能需求激增，先进制程也一直是国内最重要的战略性物资。此外，我们从产业端同样了解到的明年7nm及以下节点有望迎来数倍规模扩产。 三、如何看待板块投资机会？核心标的是聚和材料，后续若完成对SKE blank mask资产收购，聚和将是国内唯一拥有高端空白掩膜版产能的公司，将受益于下游先进制程的扩产及下游掩膜版厂商的强国产替代需求，公司在目前韩国产能外，也规划了中国大陆扩产机会，并已锁定核心工艺设备。股价短期压制因素解决（二股东股权询价转让完成）